analyst

  1. 质量轴校正
    拟合曲线调整：手动和自动；
    小技巧：用已校正的数据（Dac）来拟合曲线，来估计未校正的质量轴（线性关系）

  2. Dac
    Dac是数模转换，根据mass值转化为电压的关系吗？ 是的，
    实验中那个斜率为107是如何确定的？需要知道是几级？
    tool->settings->intrument options->calision table...
    粗略调整质量轴

  • 斜率等于MASS（Da）/ Dac
    线性关系
  1. 参数扫描
    Declustering Potential（DP）
    Entrance Potential（EP）
    cxp
    ro2
    根据强度条件寻找对应值；？？？
    精细调整质量轴

DP设置电压：不用从0-300V，从0-200V就足够了
更改的是哪一个参数？？？
一般相同母离子的子离子，DP应一致

  1. 寻找目标峰：调整分辨率，通过调整峰宽（Mass）的offset。
    分辨率越高，峰分得越开？是的

  2. 峰宽度变化
    offset的调整：分辨率偏小减小offset，分辨率偏大增加offset；每次微调0.003？
    调整Offset值会影响分辨率，如增加offset值，会增加离子在四极杆中得循环数，离子强度会降低，但峰形更窄、分辨率更好。

  3. 默认
    峰宽为6Da。质量轴偏，找不到目标峰，强度低，则可以尝试调大峰宽，增加寻找范围。

  4. 扫描模式
    full-scan 全扫描模式，定义扫描的质量范围的起点终点，一般用于校正仪器和寻找母离子。
    single Ion monitoring(SIM),对固定的质量数进行监控；背景噪声较低，信号强度不变，但S/N更高，一般用于定量分析。可能存在假阳性。

Q1/Q3 full-scan
Q1/Q3 SIM
product ion scanning
precursor ion scanning
Neutral Loss Scanning ：
中性丢失，P..I..S..模式的补充，用于定性，Q1和Q3 都同时处于SCAN模式，两者总相差固定的质量数（质谱图意味着Q1和Q3 出现了规定差值的离子对），同步扫描。
MRM ：
多反应监控，Q1和Q3都处于SIM模式，可跳跃监控多对离子对；信噪比好，主要用于定量分析。

  1. 检测器
    CEM检测器范围：2000~3000V，正负离子模式下各自独立，不一定总是需要最高的电压；CEM尝试增加100V，若信号强度提高超过10%，则CEM提高100V，否则不用提高。
    Deflector电压可调（±400V），DF电压调好后基本不变

质谱仪

  1. 排气步骤
    注意液相阀门的开关顺序
    注射泵排气，压紧

  2. 调谐液
    调谐进调谐液的时候，离子源不会加热；流速慢